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MODELAGEM E SIMULAÇÃO DE TRANSISTORES DE EFEITO DE CAMPO DE SEMICONDUTOR  E METAL  (MESFETs)
José Maria Rodrigues Fernandes 1
Paulo César Miranda Machado 1, 2
(1. Aluno de iniciação científica. Escola de Engenharia Elétrica e de Computação EEEC – UFG; 2. Prof. Orientador – PhD. Escola de Engenharia Elétrica e de Computação EEEC – UFG)
INTRODUÇÃO:

O Transistor de Efeito de Campo de Semicondutor e Metal (MESFET-“Metal-Semiconductor Field-Effect-Transistor”) é um dos dispositivos semicondutores mais utilizados em aplicações analógicas e digitais.  O nome de transistor de efeito de campo origina-se de seu princípio físico de operação: o mecanismo de controle é baseado no campo elétrico estabelecido pela tensão aplicada no terminal conhecido como Porta (Gate-G). Essa tensão aplicada à Porta controla o fluxo de corrente entre os terminais Fonte (Source-S) e Dreno (Drain-D).

Pode ser usado  como amplificador, oscilador, chave e em circuitos digitais como o dispositivo ativo fundamental. Este transistor é praticamente indispensável em aplicações eletrônicas de alta velocidade, tais como sistemas de comunicações com fibras óticas e satélites, telefonia celular, computadores em geral, etc.

Existe hoje uma necessidade de reduzir o tempo e o custo do desenvolvimento de tais dispositivos e isso tem levado a um crescente interesse em modelá-los e predizer o seu desempenho antes de sua fabricação. Assim, por meio de um modelo, o comportamento real de um dispositivo pode ser simulado teoricamente. Para que tais modelos sejam efetivamente projetados, é importante conhecermos como estes dispositivos operam e sermos capazes de caracterizá-los.

É necessário então desenvolver modelos físicos de MESFETs que permitam a simulação numérica de sua operação, para que possam ser projetados, otimizados e fabricados com a precisão requerida. E quanto mais detalhado for este modelo, maior sua chance de produzir um dispositivo mais eficiente.

METODOLOGIA:

2.1-Levantamento e estudo de referências bibliográficas referentes ao Transistor de Efeito de Campo de Semicondutor e Metal (MESFET).

2.2-Estudo da teoria de Física do Estado Sólido e equacionamento dos parâmetros a serem utilizados no modelo.

2.3-Estudo do programa computacional desenvolvido pelo grupo de pesquisa, que simula dispositivos semicondutores utilizando o modelo clássico (Equação de Poisson e Equação da Continuidade), para fins de  entender o seu funcionamento e estudar os problemas de convergência existentes.

2.4-Substituir a  malha uniforme do programa por uma malha adaptativa.

2.5-Acrescentar ao programa sub-rotinas que calculam a transcondutância, a capacitância e a tensão de limiar do dispositivo.

2.6-Redação do relatório final contendo todos os resultados alcançados.

RESULTADOS:

O programa “ddlmesf.for” desenvolvido pelo grupo de pesquisa foi criado em linguagem de programação FORTRAN. Ao ser executado ele nos oferece uma série de dados tais como distribuição de potencial, concentração de elétrons, mobilidade eletrônica, campo elétrico e densidade de corrente, para as condições iniciais pré- estabelecidas.

Esses dados são gerados como tabelas em formato txt, o que permite que sejam convertidos em formato gráfico através de programas com recursos  apropriados. Neste trabalho  o programa MATLAB foi usado como ferramenta para gerar tais gráficos, permitindo assim uma melhor análise dos resultados obtidos.

O modelo bi-dimensional que simulamos foi o drift-diffusion, modelo este que considera o sistema em equilíbrio térmico.

Com este modelo calculamos algumas das características do MESFET , tais como Distribuição de Potencial e  Densidade de Elétrons

Além destes, calculamos também outros parâmetros, como tensão de limiar, transcondutância e  capacitância, os quais também puderam ser representados graficamente.

CONCLUSÕES:

Neste trabalho utilizamos o modelo clássico para simulação de dispositivos semicondutores, que consiste na resolução da equação de Poisson e da equação da Continuidade para a determinação da distribuição de potencial e da densidade de elétrons, respectivamente. Este modelo considera o sistema em equilíbrio térmico. Existem outros modelos que levam em conta a variação da temperatura, nos quais além de se calcular as equações de Poisson e da Continuidade, também é levada em conta a equação do transporte de energia.

Após realizarmos as simulações e convertemos as informações para um formato gráfico, traçamos a curva característica do dispositivo. Logo em seguida, calculamos os seguintes parâmetros do MESFET: tensão de limiar, transcondutância e  capacitância.

Ao avaliarmos todos os dados que obtivemos, observamos que os resultados correspondem às características que verificamos na prática para um dispositivo do tipo MESFET. Assim, percebemos que mesmo utilizando um modelo relativamente simples do dispositivo, podemos obter dados que nos revelam seu real comportamento. A obtenção de modelos que simulem as características físicas de um determinado dispositivo é fundamental para seu desenvolvimento e fabricação.

 

REFERÊNCIAS BIBLIOGRÁFICAS

 Adachi, S.; GaAs and Related Materials, World Scientific, Singapore, 1994.

Artigos publicados no IEEE Trans. Electron. Dev. e IEEE Trans. Microwave Theory Techniq.

Selberherr, S.; Analysis and Simulation of Semiconductor Devices, Springer-Verlag, 1984.

Snowden, C. M.; Semiconductor Device Modelling, Springer-Verlag, 1989.

Sze, S. M.; Semiconductor Devices: Physics and Technology, John Wiley & Sons, 1985.

Tiwari, S.; Compound Semiconductor Device Physics, Academic Press, Boston, 1992.

Vaz, K. F.; Modelo Clássico para a Simulação de Dispositivos Semicondutores Aplicados a MESFETs, Dissertação de mestrado, Escola de Engenharia Elétrica e de Computação, UFG, 2004.

 

Instituição de fomento: CNPq / PIBIC
Trabalho de Iniciação Científica  
Palavras-chave: MESFETs; modelagem; simulação.
Anais da 58ª Reunião Anual da SBPC - Florianópolis, SC - Julho/2006